本设备在已贴合感光胶（dfr）的导电玻璃或导电膜上，通过与mask图形uv照射实现曝光的设备。 干膜曝光设备规格 设备尺寸 : 1,430(w) x 2,852(l) x 2,200(h) 设备重量 : 约 1,500kg 曝光区 : 550mm x 500mm 曝光方式：平行光单面曝光（真空硬接触方式） 曝光管控 : uv 光亮计管控 (1set) – 光亮显示器 照度 : 20~25mw/㎠ – 输入总能量或输入时间 均匀性 : 92% 以上 分辨率 : l=30㎛/30㎛(15㎛ 感光膜 为准 ) 波长 (uv) : 365nm(320~450nm) c.a : 1.5° d.a : 1.5° lamp : 5kw mercury short arc lamp lamp 冷却方式 : 气冷 lamp 寿命 : 1500hr 曝光区洁净度 : 与车间洁净度等同 设备颜色 : 乳白色 平台结构 (plate) : 真空平台 吸真孔直径： 0.7 mm 、pitch:10mm 玻璃盖开闭方式：气缸自动控制 a3